隨著華為世界市場的不斷擴展，中國的電子行業也在如火如荼的高速發展，而在電子行業的生產以及研發過程中，都不可缺少超純水的使用，滲源電子級超純水設備則是為國內電子行業的生產與研發而誕生的超純水系統。水質能完全符合國內電子級超純水行業規定，特別是對金屬離子的控制，能做到十分的精密，這一點就在于使用進口高端的EDI電滲析技術，能滿足國內的任何一家電子企業的生產與使用，而且價格遠低于進口超純水系統，真正的性價比之王。

在電子工業主要是線路板、電子元器件生產都需要使用去離子水/超純水，這類產品精密度非常高，在生產過程中的重要度也在不斷的提升，已經慢慢成為能影響產品生產質量的重要因素。一款好的超純水系統，能將生產線路板、電子元器件生產過程中直接影響到實驗結果和生產結果的金屬離子降到最低，使最終生產品質得到不錯的提升。

在晶體管、集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質的好壞與集成電路的產品質量及生產成品率關系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導體特性惡化，水中細菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區域變為N型硅而導致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

集成電路（DRAM）對純水水質的要求：

電子超純水設備是保證電子產品質量安全促進電子業健康運行的依據，電子超純水設備適用集成電路生產中高純水清洗硅片、半導體材料、晶元材料生產、加工，滲源的電子工業超純水設備廣泛的用于在電子業中，而且在電子業中的地位更是蒸蒸日上成為業內發展的重要推手。

電子行業超純水特點：

目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。

電子行業超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素。這種級別的超純水是一般工藝很難達到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設備的方法通常采用反滲透，去離子或電滲析(EDI)等工藝進行制備。

中國電子行業超純水國家標：

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