國產半導體芯片一直都無法成為半導體芯片的有力競爭者，龐大的進口芯片卻成為了國外企業賺錢的有力途徑，但在精密的芯片生產行業來看，中國依然有著不小的差距，沒有技術與設備的支持，很難做到真正的國產。

生產半導體芯片必然需要使用超純水設備，一臺對水質凈化比較好的設備能增加制造出來產品的穩定性，不單單性能優越，而且耐用性和殘次率也大大的降低，這將是為企業生產成本降低的有效手段。

隨著5G市場的突破，國人實現在信息行業的曲線超車，雖然一時間還是很難取得國際上大多數國家的支持，卻也成為了實現一小部分的成功，這將是一個好的開端。國內的芯片制造工藝已經贏得了國際的認可，所以三星在華增投中國芯片工廠情理之中的事情。在半導體行業的生產過程中，使用超純水對生產芯片進行去污早就是行業中公認的方式。隨著生產芯片的存儲數值的增加，對于去污水要求也在逐漸增加，特別對水質中金屬離子的含量要求也在不斷的增加，其中在16M的DRAM器件生產過程，對于去污超純水中NA、K、CL、Cu、Fe、Zn、Cr、Mn等微量元素的的要求更低，這就對使用的超純水設備工藝以及耗材更換品質要求極高。

半導體行業超純水生產工藝：
 

預處理-加酸中和-反滲透-中間水箱-中間水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外燈-臭氧殺菌-用水點

在半導體行業的超純水生產過程中，除了常規的水質凈化工藝外，增加了酸中和使水質偏堿處理，這樣能使水質更符合反滲透膜的處理要求，增加反滲透膜的使用時間，降低更換成本。除了使用常規的紫外燈殺菌外，另增加的臭氧殺菌能高效的去處水中一些難纏的微生物與細菌對半導體電子生產的影響。

半導體行業用超純水設備特點：
 

1、整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。
 

2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。
 

3、膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。

4、能耗低、水利用率高、運行成本低。
 

滲源半導體行業用超純水設備性能設計中，能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，除去了之前因為樹脂再生而停止生產線運行，使用EDI電除鹽能有效的降低水中的金屬離子，超純水裝置結構設計相對靠緊，占地面積小，可以為企業節省很多空間。

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